Анод генератора дуговой плазмы

Принцип работы известного двуханодного плазменного генератора следующий: газовое изолирующее кольцо 103 изолирует первый анод 102 от второго анода 105, канал 104 водяного охлаждения охлаждает первый анод 102 и второй анод 105; когда двуханодный плазменный генератор инициирован, первый анод 102 первоначально подсоединен к положительному полюсу источника электроэнергии. После образования электрической дуги высокой частоты между первым анодом около катода 101 образуется дуга, и высокотемпературная плазменная струя проходит ко второму аноду 105. Поскольку высокотемпературная плазма не полностью рекомбинирует в момент отключения первого анода 102 и электрического источника, то между вторым анодом 105 и катодом 101 существует проводящий путь, и действующая дуга вытягивается к отдаленному второму аноду 105, происходит перенос дуги и получают длинную дугу с большим падением напряжения.

Несмотря на то что в известном двуханодном плазменном генераторе можно улучшить «поле ветра» в генераторе двухступенчатым подводом анодного газа, удлинить плазменную дугу и улучшить мощность плазмы, соединение, изолирующее аноды, в генераторе делает устройство довольно сложным, со многими точками короткого замыкания и усложненной работой. При включении двуханодного плазменного генератора первый анод подключен к положительному полюсу источника электропитания. После образования высокочастотной электрической дуги между первыми электродами около катода образуется дуга, и высокотемпературная плазменная струя выбрасывается через второй анод. Поскольку высокотемпературная плазма не рекомбинирует полностью в момент отключения первого анода от источника электропитания, то между вторым анодом и катодом существует проводящий путь, и дуга вытягивается к отдаленному второму аноду, происходит перенос дуги, и получена длинная дуга с большим падением напряжения. Процесс переноса дуги очень неустойчивый, изолирующие компоненты между анодами легко перегорают. И процесс достигается только после неоднократного его повторения, надежность устройства неэффективна. При работе генератора часто возникает эффект двойной дуги (т.е. существуют плазменные дуги между катодом и каждой ступенью анода), изолирующий материал между ступенями анодов прогорает, а безопасность неэффективна.

Раскрытие изобретения

Целью данного изобретения является обеспечение анода генератора дуговой плазмы и генератора дуговой плазмы повышенной мощностью.

Варианты осуществления данного изобретения имеют следующие технические решения.

Анод генератора дуговой плазмы, причем плазменный генератор представляет собой генератором дуговой плазмы с многоступенчатой подачей газа, плазменный генератор включает в себя катод и анод, анод содержит по меньшей мере два участка, причем любые два соседних анодных участка электрически соединены друг с другом.

При этом самый отдаленный от катода анодный участок включает в себя любой один из следующих компонентов: компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением; компонент с постепенно сужающимся проходным; компонент, состоящий из постепенно сужающегося прохода и постепенно расширяющегося прохода; и компонент с постоянным сечением.

Причем ближайший к катоду анодный участок включает в себя компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

За исключением самого отдаленного от катода анодного участка, все остальные анодные участки включают в себя соответственно компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

Между любыми двумя соседними анодными участками обеспечены направляющие газ отверстия, направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают создание газового потока, направление скорости которого одновременно имеет тангенциальную и осевую составляющие.

Направляющие газ отверстия распределены равномерно над анодом или газовым кольцом.

Торцы двух соседних анодных участков примыкают друг к другу и контактируют друг с другом, причем в контактном положении диаметр более удаленного от катода анодного участка больше диаметра другого анодного участка, так что образуется направляющая поток канавка, обеспечивающая ввод в генератор плазмы рабочего газа, введенного через направляющие газ отверстия.

Направляющий поток канавка образует вместе с внутренней полостью анода канал, в котором газовый поток, вводимый через направляющие газ отверстия, проходит вперед по спирали вдоль стенки внутренней полости анода, и основание дуги переносится вперед в наиболее удаленный от катода участок анода.

Плазменный генератор представляет собой генератор дуговой плазмы с многоступенчатой подачей газа, плазменный генератор включает в себя катод и анод, анод содержит по меньшей мере два участка, причем любые два соседних анодных участка электрически соединены друг с другом.

Наиболее удаленный от катода анодный участок включает в себя любой один из следующих компонентов: компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением; компонент с постепенно сужающимся проходным сечением; компонент, состоящий из постепенно сужающегося прохода и постепенно расширяющегося прохода, и компонент с постоянным проходным сечением.

Ближайший к катодному участку анодный участок представляет собой компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

За исключением самого отдаленного от катода анодного участка, все остальные анодные участки представляют собой соответственно компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

Между любыми двумя соседними анодными участками обеспечены направляющие газ отверстия, причем направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают создание газового потока, направление скорости которого одновременно имеет тангенциальную и осевую составляющие.

Направляющие газ отверстия равномерно распределены над анодом или газовым кольцом.

Торцы двух соседних анодных участков примыкают друг к другу и контактируют друг с другом, причем в контактном положении диаметр более удаленного от катода анодного участка больше диаметра другого анодного участка, так что образуется направляющая поток канавка, обеспечивающая ввод в генератор плазмы рабочего газа, вводимого через направляющие газ отверстия.

Направляющая поток канавка образует вместе с внутренней полостью анода канал в котором газовый поток, вводимый через направляющие газ отверстия, проходит вперед по спирали по стенке внутренней полости анода, и основание дуги переносится вперед в наиболее удаленный от катода анодный участок.

Между катодом и ближайшим к катоду анодным участком обеспечено изоляционное газовое кольцо.

Плазменный генератор представляет собой генератор дуговой плазмы с горячим катодом, между катодом и ближайшим к катоду анодным участком обеспечены направляющие газ отверстия, направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают создание газового потока, направление скорости которого одновременно имеет тангенциальную и осевую составляющие.

Плазменный генератор представляет собой генератор дуговой плазмы с холодным катодом, между катодом и ближайшим к катоду анодным участком обеспечены направляющие газ отверстия, направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями.

Технический эффект представленных выше решений состоит в следующем:

Анодные участки электрически соединены между собой, поэтому исчезает проблема, связанная с тем, что изоляционное соединение между анодными участками приводит к появлению множества точек короткого замыкания и отрицательно влияет на устойчивость дуги. При работе плазменного генератора по данному изобретению с многоступенчатой подачей газа, в газе между первым анодным участком и катодом, с помощью тока высокого напряжения, происходит пробой с образованием электрической цепи и создается электрическая дуга. Под действием вытягивающей силы, обеспечиваемой газом первичной подачи, вводимого около катода, дуга перемещается к следующему анодному участку, дальше от катода. В то же время осуществляют тангенциально ввод вторичного газа для того, чтобы основание дуги не «узнало» до следующей ступени дугового канала, при этом дуга будет шаг за шагом удлиняться и так, пока не достигнет последней ступени анода. При удлинении дуги напряжение плазменного генератора возрастает. Поскольку многоступенчатая подача газа осуществляется в тангенциальном направлении, создается хорошее кинематическое поле и значительно возрастает общий поток, увеличивается расстояние между фактическими положениями разряда на аноде и катоде, удлиняется длина дуги, повышается выходное напряжение генератора и повышается мощность плазменного генератора при заданном входном токе.

Краткое описание чертежей

Фиг.1 - схематичное изображение известного двуханодного плазменного генератора.

Фиг.2 - схематичное изображение первого варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа по данному изобретению.

Фиг.3 - схематичное изображение второго варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа по данному изобретению.

Фиг.4 - схематичное изображение третьего варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа по данному изобретению.

Фиг.5 - схематичное изображение четвертого варианта плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа по данному изобретению.

Фиг.6 - схематичное изображение анода плазменного генератора с трехступенчатым подводом газа по данному изобретению.

Фиг.7 - схематичное изображение генератора дуговой плазмы с двухступенчатым подводом анодного газа с горячим катодом.

Фиг.7b - разрез газового кольца 702 фиг.7.

Фиг.8 - схематичное изображение генератора дуговой плазмы с двухступенчатым подводом газа с холодным катодом.

Фиг.8b - разрез газового кольца 802 фиг.8.

Подробное описание предпочтительного варианта осуществления

Раскрытый в настоящем изобретении анод с многоступенчатым подводом газа организует газовые потоки в основном за счет внутреннего конструктивного решения, кроме того обеспечивает ламинарное течение газа за счет дополнительного подвода энергии на следующей ступени, так что анодное основание дуги прекращает газораспределение только на последнем анодном участке.

схематичное изображение первого варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа

схематичное изображение второго варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа

Конструкции анодов для двухступенчатой подачи газа, к которым относится данное изобретение, приведены на фиг.2-5. На фиг.2 наиболее отдаленный от катода последний участок анода содержит только компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением; на фиг.3 наиболее отдаленный от катода последний участок анода содержит только компонент с постепенно сужающимся проходным сечением; на фиг.4 наиболее отдаленный от катода последний участок анода содержит компонент, состоящий из постепенно сужающегося прохода и постепенно расширяющегося прохода, причем этот компонент содержит между двумя проходами участок постоянного сечения; на фиг, 5 наиболее отдаленный от катода последний участок анода содержит компонент с постоянным сечением. На основе отмеченного выше разного конструктивного исполнения анода, для разных областей применения может быть получена плазменная струя с разной температурой. Как представлено на фиг.2-5, ближайший к катоду участок анода содержит компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением; остальные участки анода, за исключением наиболее отдаленного от катода участка анода, включают компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

схематичное изображение третьего варианта анода плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа

схематичное изображение четвертого варианта плазменного генератора с двухступенчатым подводом газа

Плазменный генератор, включающий в себя анод, показанный на фиг.2-5, содержит две части, т.е. анод и катод. При этом анод включает в себя: первый анодный участок 201 (301, 401, 501), ближайший к катоду; направляющие газ отверстия 202 (302, 402, 502) между анодными участками; второй анодный участок 203 (303, 403, 503); анодную герметизирующую оболочку 204 (304, 404, 504) для герметизации анода; канал водяного охлаждения 205 (305, 405, 505) для первого анодного участка; канал водяного охлаждения 206 (306, 406, 506) для второго анодного участка и направляющая поток канавка 207 (307, 407, 507) потока.

При этом между любыми двумя соседними анодными участками обеспечены направляющие газ отверстия 202 (302, 402, 503), направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают создание газового потока, обладающего одновременно тангенциальной и осевой составляющими скорости, а направляющие газ. отверстия равномерно распределены по аноду или по одному газовому кольцу.

Торцевые поверхности двух соседних анодных участков в контактном положении примыкают и контактируют друг с другом, для формирования направляющей поток канавки 207 (307, 407, 507), вводящей рабочий газ, который поступает в плазменный генератор через направляющие газ отверстия 202 (302, 402, 502), при этом диаметр более удаленного от катода анодного участка больше диаметра другого анодного участка. Направляющая поток канавка 207 (307, 407, 507) образована проходом и дуговым каналом следующей ступени, ее функция состоит в том, чтобы рабочий газ вводился в генератор так, чтобы газовый поток образовывал в аноде закрученный поток, внутренняя стенка анода охлаждается в достаточной степени и основание дуги в конце концов опускается в последнюю ступень анода.

Из этого следует, что направляющая поток канавка 207 (307, 407, 507) образует канал вдоль внутренней полости анода, в котором газовый поток, который вводится через направляющие газ отверстия 202, (302, 402, 502), проходит вперед спирально вдоль стенки внутренней полости анода, и основание дуги переносится в наиболее удаленный от катода участок анода.

При этом каждый анодный участок содержит контур водяного охлаждения, который охлаждает каждую ступень анода в достаточной степени, чтобы обеспечить продолжительный срок ее службы.

При работе плазменного генератора первичная подача газа происходит из первого анодного участка 201 (301, 401, 501), вторичная подача газа происходит из направляющих газ отверстий 202 (302, 402, 502) между анодными участками. Под действием направляющей поток канавки 207 (307, 407, 507), поскольку благодаря совместному действию ступеней подачи газа формируется хорошее кинематическое поле, основание анодной дуги перемещается во второй анодный участок 203 (303, 403, 503), что увеличивает длину дуги, повышает выходное напряжение генератора и повышает мощность генератора при заданном входном токе.

схематичное изображение анода плазменного генератора с трехступенчатым подводом газа

На фиг.2-5 представлен анод для двухступенчатой подачи газа, что можно понять, поскольку многоступенчатая подача газа аналогична двухступенчатой подаче. Фиг.6 представляет схематично анод для трехступенчатой подачи газа. Плазменный генератор с таким анодом включает в себя: первый анодный участок 601, второй анодный участок 602, третий анодный участок 603, защитную оболочку 604 анода, канал 605 водяного охлаждения для первого анодного участка, вторую ступень направляющих газ отверстий 606, канал 607 водяного охлаждения для второго анодного участка, третью ступень направляющих газ отверстий 608, вторую ступень 609 с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением, канал 610 водяного охлаждения для третьего анодного участка, третью ступень 611 с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением, направляющую поток канавку 612 второй ступени и направляющую поток канавку 613 третьей ступени. Принцип работы и технический эффект подобен тому, что представлено на фиг.2-5 и описание поэтому опущено.

Для более ясного понимания данного изобретения представлены два варианта осуществления плазменного генератора: один плазменный генератор с горячим катодом и другой плазменный генератор с холодным катодом.

Вариант 1

Фиг.7 представляет схему устройства генератора дуговой плазмы с горячим катодом, выполненного с анодом, имеющим двухступенчатую подачу газа.

701 - верхний катод, 702 - газовое кольцо, 703 - спиральный газовый поток, образованный за счет подачи газа первой ступени после его прохода через газовое кольцо 702, 704 - первый анодный участок, 705 - спиральный газовый поток подачи газа второй ступени после его выхода из направляющих газ отверстий 708 и прохода по направляющей поток канавке 709, 706 - второй анодный участок, 707 - путь перемещения дуги, 708 - направляющие газ отверстия и 709 - направляющая поток канавка.

схематичное изображение генератора дуговой плазмы с двухступенчатым подводом анодного газа с горячим катодом.

Фиг.7b представляет сечение газового кольца 702 в плоскости А фиг.7, причем газовое кольцо 702, во избежание короткого замыкания между катодом 701 и первым анодным участком 704, выполнено из изолирующего материала, направляющие газ отверстия в газовом кольце 702 могут быть тангенциальными отверстиями или направляющими газ отверстиями, которые обеспечивают направление скорости газового потока, имеющее одновременно тангенциальную и осевую составляющие. Направляющие газ отверстия между катодом и ближайшим к катоду анодным участком могут быть выполнены в газовом кольце 702 или в первом анодном участке 704.

разрез газового кольца 702 фиг.7.

Направляющие газ отверстия 708 выполнены между любыми двумя соседними анодными участками, направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают направление скорости газового потока, имеющее одновременно тангенциальную и осевую составляющие, а направляющие газ отверстия распределены равномерно по аноду или газовому кольцу.

Торцы первого анодного участка 704 и второго анодного участка 706 примыкают и контактируют друг с другом. В контактном положении, с целью формирования направляющей поток канавки 709 для направляющего поток канала, диаметр второго анодного участка 706 больше диаметра первого анодного участка 704, так чтобы подача в плазменный генератор вторичного газа, вводимого через направляющие газ отверстия 708, происходила надлежащим образом.

Направляющая поток канавка 709 образует вместе с внутренней полостью анода канал, по которому газовый поток, вводимый через направляющие газ отверстия 708, проходит вперед спирально вдоль стенки внутренней полости анода, и основание дуги переносится вперед в наиболее отдаленный от катода участок анода.

Когда первичная подача газа проходит через газовое кольцо 702, то газовый поток под действием направляющих поток отверстий в газовом кольце 702, образует спиральное тангенциальное перемещение вдоль стенки в первом анодном участке 704; далее газовый поток перемещается во второй анодный участок 706, в результате резкого расширения участка (между первым анодным участком 704 и вторым анодным участком 706 происходит расширение) спиральное движение газового потока снижается; когда проходит вторичная подача газа из направляющих газ отверстий 708 через направляющую поток канавку 709 во втором анодном участке 706, то вторичный газовый поток под действием направляющей поток канавки 709 движется спирально в тангенциальном направлении по отношению к стенке второго анодного участка 706. После первичной и вторичной подачи газа вторичный газовый поток двигается вперед по спирали, охватывая первичный газовый поток.

Таким образом, когда дуга проходит между катодом 701 и анодом (образованным первым анодным участком 704 и вторым анодным участком 706), она фиксируется на центральной оси первого анодного участка 704 при первичном спиральном перемещении газового потока; когда дуга перемещается ко второму анодному участку 706, при отсутствии вторичной подачи газа, основание анодной дуги будет «падать» вблизи торца первого анодного участка 704, поскольку газовый поток переходит из состояния ламинарного движения в состояние турбулентного движения. Под действием вторичной подачи газа газовый поток разгоняется вдоль пристеночного слоя второго анодного участка. Поскольку дуга находится под воздействием движущегося газового потока, то ее длина увеличивается, напряжение дуги возрастает и повышается мощность плазменного генератора.

На фиг.7b представлен разрез установленного в генераторе газового кольца 702, газовое кольцо 702 является тангенциальным газовым кольцом. После прохождения газовым потоком тангенциального газового кольца формируется тангенциальный спиральный газовый поток, который движется по спирали; сформированная тангенциальным спиральным газовым потоком центральная зона пониженного давления не только фиксирует дугу на центральной оси анода, но создает также внутри анода холодную воздушную защитную пленку, которая защищает анод от нагрева излучением дуги и от разрушения основания дуги.

Вариант 2

Фиг.8 представляет схему генератора дуговой плазмы с холодным катодом, выполненного с анодом с двухступенчатой подачей газа.

801 - трубчатый катод, 802 - газовое кольцо, 803 - спиральный газовый поток, сформированный подачей газа первой ступени после его прохода через газовой кольцо 802, 804 - первый анодный участок, 805 - спиральный газовый поток, образованный газом второй ступени, после его прохода из направляющих газ отверстий 810 по направляющей поток канавке 811, 806 - второй анодный участок, 807 - путь перемещения дуги, 808 - подача газа на катоде, 809 - газовое кольцо для подачи газа на катоде, 810 - направляющие газ отверстия и 811 - направляющая поток канавка.

схематичное изображение генератора дуговой плазмы с двухступенчатым подводом газа с холодным катодом.

Фиг.8b представляет сечение показанного на фиг.8 газового кольца 802, газовое кольцо 802 является тангенциальным газовым кольцом. Во избежание короткого замыкания между катодом 801 и первым анодным участком 804 газовое кольцо 802 изготовлено из изолирующего материала, направляющие газ отверстия в газовом кольце 802 являются тангенциальными отверстиями. Направляющие газ отверстия между катодом и ближайшим к катоду анодным участком могут быть выполнены в газовом кольце 802 или в первом анодном участке 804.

разрез газового кольца 802 фиг.8.

Торцы первого анодного участка 804 и второго анодного участка 806 примыкают и контактируют друг с другом. В контактном положении диаметр второго анодного участка 806 больше диаметра первого анодного участка 804, так что в контактном положении для направляющего поток канала образуется направляющая поток канавка 811, по которой газ вторичной подачи, введенный через направляющие газ отверстия 810, вводится в плазменный генератор.

Таким образом, направляющая поток канавка 811 образует вместе с внутренней полостью анода канал, по которому газовый поток, поступающий через направляющие газ отверстия 810, проходит вперед по спирали вдоль стенки внутренней полости анода, а основание дуги переносится вперед в наиболее удаленный от катода участок анода.

При проходе первичного газа через тангенциальное газовое кольцо 802, газовый поток под действием направляющих газ отверстий в газовом кольце 802 осуществляет спиральное тангенциальное движение вдоль стенки первого анодного участка 804; далее газ движется ко второму анодному участку 806, спиральное движение газового потока ослабевает на участке резкого расширения (между первым анодным участком 804 и вторым анодным участком 806); когда вторичная подача газа проходит по направляющей поток канавке 811 во второй анодный участок 806, вторичный газовый поток под влиянием направляющей поток канавки 811 формирует спиральное движение в тангенциальном направлении к стенке внутри второго анодного участка 806. После взаимодействия между газом первичной и вторичной подачи вторичный газовый поток продвигается вперед по спирали, охватывая первичный газовый поток.

Подача газа со стороны катода осуществляется через кольцо 809 подачи газа. После прохода кольца 809 подачи газа через катод газовый поток спирально проходит вперед и в канале катода 801 встречается с газом первичной подачи, точкой встречи является место, от которого движется катодное основание дуги. Когда изменяются катодный газовый поток и давление первичного воздуха, то соответственно изменяется положение катодного основания дуги. Катодное основание дуги будет перемещаться назад и вперед по внутренней стенке трубчатого катода 801, тем самым срок службы трубчатого катода 801 продлевается.

Таком образом, когда дуга проходит между катодом 801 и анодом (образованным первым анодным участком 804 и вторым анодным участком 806), положение и перемещение катодного основания дуги определяется условиями подачи катодного газа и первичной подачей газа; в аноде под действием спирального перемещения первичного газового потока, дуга фиксируется на центральной оси первого анодного участка 804; когда дуга перемещается в положение второго анодного участка 806, при отсутствии вторичной подачи газа, анодное основание дуги будет «падать» вблизи торца первого анодного участка 804, поскольку газовый поток будет переходить из состояния ламинарного течения в состояние турбулентного течения. Под действием вторичной подачи газа газ разгоняется вдоль пристеночного слоя второго анодного участка 806. Под действием движущегося газового потока на втором анодном участке формируются активные пятна дуги, т.е. благодаря тому, что дуга находится под воздействием движущегося газового потока, увеличивается длина дуги, повышается напряжение дуги и повышается мощность плазменного генератора.

Как понятно из вышеизложенного, анодные участки в настоящем изобретении электрически соединены между собой. Как показано, например, на фиг.2, первый анодный участок 201 и второй анодный участок 203 являются двумя участками анода, которые изготовлены из электропроводящего материала и упираются торцами друг в друга; в данном случае нет перехода на соединительной части через изолирующий материал, обе части являются проводящими. Однако в известном уровне техники, см. фиг.1, 102 и 105 являются анодными участками, которые изготовлены из электропроводящего материала, но между 102 и 105 размещен изолирующий материал, и, таким образом, соединение между 102 и 105 является изоляционным соединением. Изоляционное соединение между анодными участками будет создавать проблемы с множеством точек короткого замыкания и т.д., и будет вызывать нестабильность дуги. В техническом решении по настоящему изобретению анодные участки электрически соединены друг с другом и, таким образом, отмеченные выше проблемы устранены и улучшена стабильность дуги.

Следует дополнительно отметить, что анод плазменного генератора и генератор по настоящему изобретению могут быть применены в области техники, относящейся к плазменным генераторам высокой мощности.

Несмотря на то что выше были проиллюстрированы и описаны различные предпочтительные примерные варианты осуществления изобретения, специалистам в данной области техники понятно, что могут быть выполнены модификации и усовершенствования вариантов осуществления без отступления от объема и сущности изобретения, и модификации и усовершенствования также находятся в пределах защищаемого изобретением объема.

Формула изобретения

1. Анод генератора дуговой плазмы, характеризующийся тем, что генератор плазмы представляет собой генератор дуговой плазмы с многоступенчатой подачей газа, генератор плазмы включает в себя катод и анод, анод содержит по меньшей мере два участка, причем любые два соседних анодных участка электрически соединены друг с другом,

при этом между любыми двумя соседними анодными участками обеспечены направляющие газ отверстия, причем направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, которые обеспечивают газовый поток, направление скорости которого одновременно имеет тангенциальную и осевую составляющие,

торцы двух соседних анодных участков примыкают друг к другу и контактируют друг с другом, причем в контактном положении диаметр более удаленного от катода анодного участка больше диаметра другого анодного участка, так что образуется направляющая поток канавка, обеспечивающая ввод в генератор плазмы рабочего газа, вводимого через направляющие газ отверстия,

причем направляющая поток канавка образует вместе с внутренней полостью анода канал, в котором газовый поток, вводимый через направляющие газ отверстия, проходит вперед по спирали вдоль стенки внутренней полости анода, и основание дуги переносится вперед в анодный участок, наиболее удаленный от катода.

2. Анод генератора по п.1, в котором анодный участок, наиболее удаленный от катода, содержит компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением, или компонент с постепенно сужающимся проходным сечением, или компонент, содержащий постепенно сужающийся проход и постепенно расширяющийся проход, или компонент с постоянным сечением.

3. Анод генератора по п.2, в котором анодный участок, наиболее близкий к катодному участку, включает в себя компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

4. Анод генератора по п.2, в котором, за исключением наиболее удаленного от катода анодного участка, все остальные анодные участки включают в себя компонент с постепенно сужающимся-расширяющимся проходным сечением.

5. Анод генератора по п.1, в котором направляющие газ отверстия равномерно распределены над анодом или газовым кольцом.

6. Генератор дуговой плазмы, характеризующийся тем, что содержит анод по любому из пп.1-5.

7. Генератор по п.6, дополнительно содержащий между катодом и ближайшим к катоду анодным участком изоляционное газовое кольцо.

8. Генератор по п.6 или 7, характеризующийся тем, что является генератором дуговой плазмы с горячим катодом, при этом между катодом и ближайшим к катоду анодным участком обеспечены направляющие газ отверстия, причем направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями или отверстиями, обеспечивающими газовый поток, направление скорости которого одновременно имеет тангенциальную и осевую составляющие.

9. Генератор по п.6 или 7, характеризующийся тем, что является генератором дуговой плазмы с холодным катодом, при этом между катодом и ближайшим к катоду анодным участком обеспечены направляющие газ отверстия, причем направляющие газ отверстия являются тангенциальными отверстиями.

Имя изобретателя: ВАН Юйпен (CN), ЛИ И (CN), ЯН Шуо (CN), ЯН Дзиньхуа (CN)
Имя патентообладателя: ЯНТАЙ ЛУНЪЮАНЬ ПАУЭР ТЕКНОЛОДЖИ КО., ЛТД. (CN)
Почтовый адрес для переписки: 109012, Москва, ул. Ильинка, 5/2, ООО "Союзпатент", Ю.Б.Перегудовой
Дата начала отсчета действия патента: 19.01.2010

Разместил статью: admin
Дата публикации:  1-02-2014, 01:44

html-cсылка на публикацию		⇩ Разместил статью ⇩ Фомин Дмитрий Владимирович  Его публикации  Нужна регистрация Отправить сообщение
BB-cсылка на публикацию
Прямая ссылка на публикацию

Огромное Спасибо за Ваш вклад в развитие отечественной науки и техники!